Полупроводниковое производство
- Дезинфекция
- Удаление общего органического углерода
- Разрушение остаточного озона в отводящем газе (с помощью ультрафиолетового излучения)
Полупроводниковая промышленность
При производстве полупроводниковых элементов огромную роль играет вода высшей степени очистки. Микробиологическая и органическая чистота воды имеет решающее значение. С помощью установок ультрафиолетовой дезинфекции и озоновой очистки производится очистка непосредственно рабочего раствора. Системы дезинфекции посредством ультрафиолетового излучения и окисления озоном соответствуют самым высоким требованиям в отношении удаления общего органического углерода.
Для производственных процессов на предприятиях полупроводниковой промышленности требуется вода высшей степени очистки с максимально низким уровнем содержания общего органического углерода, составляющим менее 1 частей на миллиард или даже менее 0,5 частей на миллиард содержания общего углерода. Только ультрафиолетовое излучение, при котором используются специальные ультрафиолетовые лампы (длина волны 185 нм) и специальные реакторы могут обеспечить такие низкие уровни без добавления каких-либо примесей в воду наивысшей степени очистки.
Ультрафиолетовые лучи ионизируют органические соединения
Высокоэнергетические ультрафиолетовые лампы инициируют фотоокислительный процесс, образуя гидроксильные радикалы, которые воздействуют на органические соединения, преобразуя их в ионные. Затем ионизированные соединения легко удаляются в ионообменной установке.
Озон для дезинфекции и окисления
Озон успешно используется для дезинфекции и окисления воды наивысшей степени очистки, особенно до этапа дегазации в дополнительном контуре. Озон также используется для окисления изопропилового спирта для восстановления технологической воды.
Компания WEDECO готова не только предложить вам свои стандартные системы ультрафиолетовой дезинфекции и озоновой очистки, но и разработать варианты для ваших условий применения с учетом ваших требований.
